产品介绍：HCAD-300D 柜式自动显影机，专为曝光后精密显影工艺量身打造，以高端智造理念为核心，凭借模块化精密结构与智能化控制体系，为高端微细加工提供稳定、高效、均匀的显影解决方案，精准契合严苛工艺标准。设备核心由显影腔单元、自动摆臂单元、供液系统、主轴系统、控制系统及排液系统协同构成，整机采用高强度框架结构，外表选用镜面不锈钢材质精密打造，兼具无尘特性与抗颗粒吸附能力，从源头保障显影环境洁净可控，杜绝杂质干扰工艺精度。

设备采用手动上下片、自动完成全流程显影的作业模式，兼顾操作灵活性与工艺高效性。显影单元基片采用真空吸附加四周挡板双重固定方式，加持牢固且无损伤；搭载进口伺服电机，转速、加速度精准可控，控制精度卓越、工艺重复性优异，确保显影均匀性与一致性达标。供液系统支持厂务或压力容器直接供液方式，供液稳定顺畅，适配不同生产场景需求；控制系统采用触摸屏与PLC一体化控制模式，操作便捷直观，可实时精准显示设备运行过程中各工艺功能的执行状态，实现工艺全流程可视化监控。同时支持配方自由编辑、修改、存储及调用，灵活适配多样化显影工艺需求，彰显高端设备的智能化与灵活性优势。

适用范围：HCAD-300D 柜式自动显影机，精准适配对显影均匀性、一致性有严苛要求的高端表面处理工艺，可广泛应用于硅片、光栅、ITO导电玻璃、掩模版等基材的显影加工。设备重点适配12寸晶圆及较重方形样品的显影需求，凭借稳定的性能与精准的工艺控制，可满足科研院所实验研发、企业规模化生产等多场景应用需求。

技术参数: