产品介绍：

本款桌面型曝光机，以高端精密制造理念为核心，融合先进CCD图像对准技术、紫外LED平行光照明系统及手动对准工件台一体化设计，结构新颖紧凑，整机性能卓越稳定，操作直观便捷，精准适配微细加工的严苛工艺需求。

设备采用人性化精密结构设计，掩模版采用倒置吸附式取放方式，样片取放搭配推拉式基准平板与真空吸附工艺，操作便捷高效，大幅提升作业效率，兼顾操作便捷性与工艺严谨性。

创新搭载高精度、多自由度掩模-样片精密对准工件台，通过优化结构设计，显著提升掩模与样片的对准精度及对准速度，确保微细加工的一致性与精准度，彰显高端设备的核心技术优势。

适用范围： 本设备广泛应用于微细加工领域，可实现常规微型器件、微流体结构的精密微细加工，同时适配MEMS、双向可控硅、声表面波器件、大功率整流器及石英晶体谐振器等特种器件、结构的双面深度微细加工。此外，设备可作为专业实验装备，广泛应用于高校、科研院所，为微细加工工艺研究提供稳定可靠的技术支撑。

技术参数: