产品介绍：HC-PVD-150M 磁控溅射仪，以高端精密镀膜技术为核心，凭借严苛的腔体设计与高性能配置，为各类精密镀膜需求提供稳定、高效、均匀的解决方案，彰显高端设备的专业品质与技术实力。

设备腔体采用304不锈钢精密打造，搭配高品质氟橡胶密封圈，密封性能卓越，可有效保障腔体真空环境的稳定性与洁净度，杜绝杂质干扰镀膜工艺。腔体配备专业观察窗与手动开合防护挡板，操作便捷且安全，可实时观察镀膜全过程；顶板配置样品托盘法兰盘，底板预留多种适配源法兰盘，适配性极强，可灵活满足不同样品与镀膜工艺的安装需求。设备标配4套6英寸磁控靶枪，性能稳定可靠，可高效完成多种材质、多种类型的镀膜作业，兼顾镀膜效率与镀膜精度。

产品应用：设备广泛适配各类高端镀膜场景，可精准完成金属电极（Al/Cu/Ti/Au）、阻挡层（TaN/TiN）、透明导电膜（ITO/AZO）、压电薄膜（AlN）等多种薄膜的沉积作业，适配半导体、新能源、新材料、科研实验等多领域高端镀膜需求，为精密制造与科研创新提供强有力的技术支撑