产品介绍：HCSC-300D柜式自动喷胶机整合涂胶、光刻胶供液、主轴驱动、智能控制及排液回收五大核心系统，采用框架式结构搭配镜面不锈钢外壳，表面光滑洁净、不易吸附颗粒，可适配无尘实验及生产环境。设备采用手动上下片、自动匀胶的便捷操作模式，基片固定采用真空吸附技术，吸附牢固且不损伤基片表面；搭载进口伺服电机，转速与加减速控制精度出众，运行重复性优良，有效保障涂布工艺的一致性。主轴与吸盘经过精密校准配合，涂布均匀性达到国内外领先水平；供液系统内置过滤装置，可高效去除气泡与杂质，确保光刻胶纯度，避免影响成膜质量。设备配备触摸屏+PLC智能控制系统，实时同步显示设备运行状态，支持工艺配方自由编辑、存储及快速调用，操作便捷高效，大幅降低人工操作误差。

适用范围：该机型专为对涂布均匀性、一致性及操作安全性有严苛要求的表面涂布工艺设计，可实现光刻胶在硅片、磷化铟、碳化硅、氮化镓、铌酸锂、光栅、ITO、掩模版等各类基片表面的自动均匀涂覆并成膜。广泛适用于高校实验室、科研院所及企业研发、小批量生产场景，核心适配12寸以内晶圆的涂布需求，覆盖半导体、光电材料、微纳加工、精密器件等多个领域。

技术参数