产品介绍：

HDSC-75D桌面型旋转涂布机采用分体式结构设计，搭配POM耐腐蚀内腔，有效抵御各类溶液侵蚀，延长设备使用寿命；配备4.3英寸高清触摸屏，搭载工业级直流电机，控速精准稳定，程序界面直观易懂、操作便捷，可高效处理75mm以内各类基片。该机型整体结构紧凑、小巧轻便，可直接放入手套箱使用，适配狭小实验空间；支持单步/多步旋涂工艺可编程设置，满足多样化实验需求，且内腔采用可拆卸设计，清洗维护便捷高效，大幅提升实验效率。

适用范围：

可将各类溶液均匀涂覆于硅片、FTO、ITO、石英等各类基片表面并成膜，广泛应用于钙钛矿电池研发、溶胶凝胶法制备高分子薄膜等领域。同时，该机型可作为全自动钙钛矿手套箱一体机的微型化功能模块（含上位机软件），适配10-50mm范围内的玻璃方片及玻璃碎片，适配实验室小批量实验、样品制备等场景，兼顾实用性与灵活性。

技术参数

产品介绍：

HDSC-150D桌面型旋转涂布机采用不锈钢机身搭配POM内腔设计，兼具美观质感与结构坚固性，有效提升设备整体耐用度。核心部件均选用进口高端品牌，严苛把控品质，确保设备体积小巧紧凑的同时，具备卓越的运行稳定性；整机遵循环保标准打造，材质安全、经久耐用，适配长期实验室使用需求。设备搭载200W精密直流无刷电机，转速调节精准，最高转速可达10000RPM，满足不同涂布工艺要求；配备7英寸高清触摸屏，操作界面简洁直观，支持多组程控匀胶程序预存，可快速调用、灵活切换，大幅提升实验操作效率。

适用范围：

该机型专为表面涂布均匀性要求较高的场景设计，可将光刻胶溶液手动均匀涂覆于硅片、磷化铟、碳化硅、氮化镓、铌酸锂等各类基片表面，形成致密均匀的薄膜。其核心适配6英寸、8英寸样品的涂布需求，广泛应用于半导体、光电材料、微纳加工等相关实验室研发及小批量样品制备场景。

技术参数